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Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography Yeo Kyung Kang, 김명길 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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ESG Initiatives in Semiconductor Materials: Next Gen. Etching Gas with Low Global Warming Potential 김오현 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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BCl3 based ICP Etching of (100) β-Ga2O3 flake 김만경, 김유경, 백광현, 장수환 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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N2/He Plasma Inhibitor 개발을 통한 공간 분할 PE-ALD시스템에서의 메모리 Gap-fill공정 설계 이백주, 서동원, 황재순, 최재욱 한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
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Introduction of BARC and UL for Photolithographic Process: Optical and Chemical Interactions at Interfaces of Polymer Thin Films Jae Hwan Sim, 이정준, 안재윤, 임수정, 강유진, 정기정, 김수웅, 배영은, 임재봉 한국공업화학회 2021년 봄 학술대회 |
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INVESTIGATION OF THE FORMATION OF WOX DURING W CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION Palwasha Jalalzai, 박진구, Maneesh Kumar Poddar, 류헌열, 정연아, 김태곤 한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Phtochemical etching study on β-Ga2O3 single crystal 장수환, 신호성, 김만경 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
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SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
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GWP가 낮은 C3F6O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO2 식각 연구 김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |