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Study on Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction (MTJ) Materials using Reactive Ion Beam Etching (RIBE) for MRAM devices
김예은, 김두산, 김주은, 길유정, 장윤종, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Study on etch characteristics of nanometer-scale patterned CoFeB magnetic thin films using various etch gases
조두현, 이재용, 최재상, 정지원
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Inductive coupled plasma reactive ion etching characteristics of Ta thin films for hard mask applications
최지현, 아드리안, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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High density plasma reactive ion etching of Co2MnSi thin films using a CH3OH/Ar gas mixture for magnetic random access memory applications
아드리안, 최지현, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas
황수민, 아드리안, 최지현, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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InGaN/GaN 다층양자우물 LED구조의 Cl2/Ar ICP 식각|Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma Etching of InGaN/GaN Multiple Quantum well Light-Emitting Diode Structure
박형조, 최창선, 최락준, 홍주형, 한윤봉|H. J. Park, C. S. Choi, R. J. Choi, J. H. Hong, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
