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Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor
임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer
김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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습식 에칭한 MoNi/Cu기반 다층 전극 구조를 적용한 IGZO 박막 트랜지스터
윤대호, 김다은, 조형균
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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MACE를 이용한 Germanium 표면처리 특성 연구
이승효, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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SiO2 passivation layer 증착 공정에 따른 a-IGZO 박막의 특성 변화 분석 (The analysis of properties variation in a-IGZO thin film according to the deposition process of SiO2 passivation layer)
명재민, 이수정, 김윤철, 장건
한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etching processes
육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 김진태, 윤정식, 임연호
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
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Investigation of Silicon Nitride Thin Films Prepared by Atomic Layer Deposition Using Si2Cl6 and NH3 as the Precursors
윤원덕, 나사균, 박광철, 최병준, 이원준, 서정혜, 이연승, 김헌도, 박상기
한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
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CeO2 완충층을 이용한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 정지 특성|Etch Stop Characteristics of SrBi2Ta2O9 Thin Film by Using CeO2 Buffer Layer
권영석, 심선일, 김용태, 최인훈
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
