| 18 |
3D Feature profile simulation of oxygen effects in plasma oxide etching process
박재형, 유혜성, 장원석, 육영근, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
| 16 |
Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 15 |
Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rate in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process
천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas
조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
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Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation
천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
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Plasma surface reaction modeling coupled with global bulk plasma model in fluorocarbon plasmas
이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
