| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 1 |
TEOS/O2 PECVD에 의한 산화막과 SiO2/Si 계면특성|Properties of bulk silicon dioxide and SiO2/Si interface formed by TEOS-oxygen PECVD 김효욱, 이시우|Hyo-Uk Kim, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 PECVD에 의한 산화막과 SiO2/Si 계면특성|Properties of bulk silicon dioxide and SiO2/Si interface formed by TEOS-oxygen PECVD 김효욱, 이시우|Hyo-Uk Kim, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |