| 번호 | 제목 |
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| 7 |
3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma 박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
| 6 |
Diffusion effects of surface reaction model under the fluorocarbon plasma 오민주, 박재형, 유혜성, 육영근, 임연호 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
| 5 |
Universal surface reaction model for fluorocarbon plasma processes for silicon, silicon oxide, and silicon nitride substrate 오민주, 임연호, 유혜성, 박재형, 육영근 한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
| 4 |
3D Feature profile simulation for the oxide etching under the pulsed fluorocarbon plasma 박재형, 유혜성, 육영근, 오민주, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
| 3 |
GWP가 낮은 C3F6O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO2 식각 연구 김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
| 2 |
HARC 식각을 위한 pulsed triple frequency 효과에 대한 연구 양경채, 김수강, 이호석, 성다인, 염근영 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
| 1 |
Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2 이호석, 양경채, 박성우, 염근영 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
