| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 7 |
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition of Hf-silicate Gate Dielectrics for Organic Thin Film Transistor Application 이승협, 용기중 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
| 6 |
Atomic layer deposition을 이용한 Hf-silicate 박막 증착과 이를 이용한 펜타센 박막 트랜지스터의 성능 향상 이승협, 용기중 한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
| 5 |
ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구 이승재, 용기중 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 4 |
Comparative study of ultra-thin HfSixOy and HfSixOy/SiO2 gate dielectrics grown by self-limiting surface reaction between Hf(NC2H5)4 and Si(OC4H9)4 precursor 김재현, 용기중 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 3 |
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films 김재현, 용기중 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
| 2 |
Dichlorobis[bis(trimethylamido)]hafnium과 물을 이용한 Hafnium Silicate의 단원자층 화학증착 남원희, 강상우, 이시우, 이정현, Steven. M. George 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
| 1 |
Electrical and physical characteristics of MOCVD zirconium and hafnium silicate thin films using new combinations of precursors 김재현, 용기중 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
