| 번호 | 제목 |
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| 6 |
N2/He Plasma Inhibitor 개발을 통한 공간 분할 PE-ALD시스템에서의 메모리 Gap-fill공정 설계 이백주, 서동원, 황재순, 최재욱 한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
| 5 |
He plasma 처리를 이용한 동종접합 amorphous-IGZO 박막 트랜지스터 (Homojunction amorphous-indium-gallium-zinc-oxide thin film transistor by He plasma treatment) 장훈, 이수정, 김윤철, 명재민 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 4 |
Preparation and characterization of polyimide films modified by plasma treatments for copper metallization 손희진, 김 석, 박수진 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
| 3 |
Influence of CHF3/He plasma treatment on surface properties of polyimide film 손희진, 박수진 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 2 |
Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure 정미희, 최호석 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 1 |
A Comparative Study on Atomic Layer Etching of Chlorinated-Silicon Surfaces in Argon and Helium Plasmas 정희석, 신치범, 김창구 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
