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High Density Plasma Etching of IrMn Thin Films in a HBr/Ar Plasma 이태영, 이일훈, 이광희, 정지원 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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High Density Plasma Etching of Hard Mask Materials of SiO2, α-C:H, and ZnO 라현욱, 옥치원, 이 석, 김상훈, 한윤봉 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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High Density Plasma Etching of Magnetic Multi-layers of NiFe/Co and NiFe/Al-O/Co 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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MRAM 응용을 위한 자기박막의 고밀도 플라즈마 식각|High-Density Plasma Etching of Magnetic Films for MRAM Applications 박형조,한윤봉|Hyung-Jo Park,Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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Cl2/Ar과 C2F6/Ar 가스를 사용한 Polysilicon 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Polysilicon Thin Film in Cl2/Ar and C2F6/Ar Gases 변요한, 김혜인, 정지원|Yo Han Byun, Hye In Kim, Chee Won Chung 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 Y-Ba-Cu-O 초전도체 식각 및 소자 제작|High Density Plasma Etching of Y-Ba-Cu-O Superconductor and Device Application 임연호,한윤봉,강형곤,한병선|Y. H. Im,Y. B. Hahn,H. G. Kang,B. S. Han 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 식각공정에서 기판 온도상승에 관한 연구|Wafer Heating Effects during High Density Plasma Etching 임연호, 최창선, 김태희, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Chang Sun Choi, Tae Hee Kim, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 SiC박막 식각특성|Etching of SiC Thin Films in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas 최창선, 임연호, 박진수, 김태희, 한윤봉|C. S. Choi, Y. H. Im, J. S. Park, T. H. Kim, Y. B. Hahn 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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FRAM 소자 응용을 위한 SrBi2Ta2O9 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of SrBi2Ta2O9 Thin Films for FRAM pplication 박진수, 임연호, 최창선, 한윤봉|Jin Soo Park, Yeon Ho Im, Chang Sun Choi, Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 반도체 재료 식각기술|Etching Technology of Semiconductor Materials in High Density Plasmas 한윤봉|Yoon Bong Hahn 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |