화학공학소재연구정보센터
번호 제목
14 Fabrication of Large Area Nano-Photonic Structure by Using Nano-Imprinting process for High-Temperature Applications
박금환, 김종무, 주병권, 김영석
한국공업화학회 2016년 가을 학술대회
13 O2 플라즈마 전처리를 통해 플렉시블 기판위에 증착된 Ga-doped ZnO 투명전도막의 특성
이석진, 여인환, 오병진, 김재화, 박재환, 임동건
한국재료학회 2009년 가을 학술대회
12 Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 and BCl3-based gas Plasmas
강동진, 이건교, 이병택
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
11 양극산화 알루미나 나노채널을 이용한 실리콘 기판의 나노 기공 제작|Fabrication of nanotrenches using the AAO nanochannels on Si substrates
최준호, 홍순구, 박문규, 조유석, 우부성, 김도진
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
10 마이크로 부품 및 바이오 셀 그리핑을 위한 압전 out-of-plane 방식의 마이크로 그리퍼 설계 및 제조|Design and fabrication of out-of-plane type piezoelectric micro grippers for gripping micro parts and bio-cells
전창성, 박준식, 이상렬, 문찬우
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
9 C2F6 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 산화아연(ZnO) 식각에 관한 연구|Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas.
이건교, 이병택
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
8 CeO2 완충층을 이용한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 정지 특성|Etch Stop Characteristics of SrBi2Ta2O9 Thin Film by Using CeO2 Buffer Layer
권영석, 심선일, 김용태, 최인훈
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
7 CFD-ACE를 이용한 ICP-RIE공정의 전산모사
이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
6 C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3
이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
5 자성 박막의 건식 식각
송영수, 정지원
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회