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Real-Time Endpoint Detection for SiO2 Film Plasma Etching Using Impedance Analysis with Modified Principal Component Analysis
장해규, 김대경, 채희엽
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Sidewall-etched GaN nanorods를 이용한 GaN-based light-emitting diodes (LEDs)의 빛 추출 효율 향상
김병재, 정영훈, 김지현
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Nanoimprint Lithography 기술과 Reactive ion etcing 기술을 이용한 수십 나노급 상변화 물질 패턴 형성 연구
양기연, 김종우, 홍성훈, 이헌
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구|Optimization of mask fabrication process for EUV lithography
김우삼, 김충용, 김태근, 이승윤, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 Y-Ba-Cu-O 초전도체 식각 및 소자 제작|High Density Plasma Etching of Y-Ba-Cu-O Superconductor and Device Application
임연호,한윤봉,강형곤,한병선|Y. H. Im,Y. B. Hahn,H. G. Kang,B. S. Han
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
