화학공학소재연구정보센터
번호 제목
6 ICP 플라즈마 반응시스템을 활용한 합성가스 제조기술
곽근재
한국공업화학회 2018년 가을 학술대회
5 Properties of Inductively Coupled Plasma Source Applied to Internal Linear Antenna using Superimposed Dual Frequency
이수정, 김도한, 김태형, 김수강, 이원오, 김경남, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
4 Characteristics of deep Si etching using the advanced Bosch process in PFC- and UFC- containing plasmas
지정민, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
3 Plasma Simulation of Gas Flow Effect on Plasma Uniformity in Inductively Coupled Plasma Etcher
이재원, 채희엽, 박근주
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
2 High Density Plasma Etching of Magnetic Multi-layers of NiFe/Co and NiFe/Al-O/Co
라현욱, 한윤봉
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
1 MRAM 응용을 위한 강자성 박막재료의 고밀도 플라즈마 식각
박형조, 라현욱, 한윤봉
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회