| 번호 | 제목 |
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Post Ru CMP Cleaning for Alumina Particle Removal Y. Nagendra Prasad, Tae-Young Kwon, In-Kwon Kim, Jin-Goo Park 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Development of slurry for Ru Chemical Mechanical Planarization In-Kwon Kim, Tae-Young Kwon, Jin-Goo Park, Hyung-Soon Park 한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
