화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 The Effects of Annealing on the Electrical Characteristics of In0.53Ga0.47As MOS Device
채명균, 김소현, 구본철, 최창환
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
3 NH3 Pre-Plasma Treatment to Reduce Interface State Density of GaN MOS Device
정우석, 임동환, 김영진, 한훈희, 손석기, Andrey Sokolov Sergeevich, 이재호, 최창환
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
2 Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices
임동환, 정우석, 최창환
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
1 수소처리를 통한 탄화규소 쇼트키 다이오드의 역방향 특성 개선|Improvements in the reverse characteristics of 4H-SiC Schottky barrier diodes by hydrogen treatments
김대환, 나훈주, 정상용, 송인복, 엄명윤, 송호근, 김형준
한국재료학회 2003년 가을 학술대회