화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 최적화된 이온 에너지를 통한 그래핀 표면 클리닝
김기석, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
2 3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas
조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
1 플라즈마와 표면굴곡과의 상호작용|Interaction of a Plasma with Surface Topography
김창구|Chang-Koo Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회