화학공학소재연구정보센터
번호 제목
27 The synthesis of photosensitive polyimide for semiconductor using o-nitrobenzyl ether group
송광식, 허윤정, 백정주, 박성만, 김영랑, 장기철, 김영훈, 이효선, 배근열, 최경호, 신교직
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회
26 대면적 첨단 시스템반도체 패키지용 고분자 소재의 응용
허현수
한국공업화학회 2021년 가을 학술대회
25 The synthesis of photosensitive polyimide using various groups for application of semiconductors
송광식, 박성만, 김영랑, 김영훈, 허윤정, 백정주, 장기철, 이효선, 배근열, 최경호, 신교직
한국고분자학회 2020년 봄 학술대회
24 The synthesis of photosensitive polyimide using various groups for application of semiconductors
송광식, 김영랑, 김영훈, 박성만, 허윤정, 백정주, 장기철, 이효선, 배근열, 최경호, 신교직
한국공업화학회 2020년 봄 학술대회
23 The Fabrication of PSPI for semiconductor using photoreactive group
송광식, 박성만, 김영훈, 백정주, 장기철, 신교직, 최경호
한국고분자학회 2019년 가을 학술대회
22 The Fabrication of PSPI for semiconductor using monomer containing hydroxyl group
송광식, 장기철, 김영훈, 백정주, 최경호, 신교직
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회
21 Synthesis and Characterization of positive-type photosensitive polyimide for Optical Applications
문관호, 서지훈, 이승우
한국고분자학회 2017년 가을 학술대회
20 Synthesis and characterization of a polyimide from a precursor containing photosensitive group
박유진, 문유경, 박노균, 김윤호, 원종찬, 김진수
한국고분자학회 2017년 가을 학술대회
19 Material exposed to light in regularization for positive-tone photoresists
윤정, 이승우, 김기승, 서지훈
한국고분자학회 2017년 봄 학술대회
18 Synthesis and characterization of positive tone polyimide photo-resist
문관호, 김재홍, 홍덕기, 김기승, 이승우
한국공업화학회 2017년 봄 학술대회