27 |
The synthesis of photosensitive polyimide for semiconductor using o-nitrobenzyl ether group 송광식, 허윤정, 백정주, 박성만, 김영랑, 장기철, 김영훈, 이효선, 배근열, 최경호, 신교직 한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
26 |
대면적 첨단 시스템반도체 패키지용 고분자 소재의 응용 허현수 한국공업화학회 2021년 가을 학술대회 |
25 |
The synthesis of photosensitive polyimide using various groups for application of semiconductors 송광식, 박성만, 김영랑, 김영훈, 허윤정, 백정주, 장기철, 이효선, 배근열, 최경호, 신교직 한국고분자학회 2020년 봄 학술대회 |
24 |
The synthesis of photosensitive polyimide using various groups for application of semiconductors 송광식, 김영랑, 김영훈, 박성만, 허윤정, 백정주, 장기철, 이효선, 배근열, 최경호, 신교직 한국공업화학회 2020년 봄 학술대회 |
23 |
The Fabrication of PSPI for semiconductor using photoreactive group 송광식, 박성만, 김영훈, 백정주, 장기철, 신교직, 최경호 한국고분자학회 2019년 가을 학술대회 |
22 |
The Fabrication of PSPI for semiconductor using monomer containing hydroxyl group 송광식, 장기철, 김영훈, 백정주, 최경호, 신교직 한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
21 |
Synthesis and Characterization of positive-type photosensitive polyimide for Optical Applications 문관호, 서지훈, 이승우 한국고분자학회 2017년 가을 학술대회 |
20 |
Synthesis and characterization of a polyimide from a precursor containing photosensitive group 박유진, 문유경, 박노균, 김윤호, 원종찬, 김진수 한국고분자학회 2017년 가을 학술대회 |
19 |
Material exposed to light in regularization for positive-tone photoresists 윤정, 이승우, 김기승, 서지훈 한국고분자학회 2017년 봄 학술대회 |
18 |
Synthesis and characterization of positive tone polyimide photo-resist 문관호, 김재홍, 홍덕기, 김기승, 이승우 한국공업화학회 2017년 봄 학술대회 |