| 번호 | 제목 |
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| 4 |
Stripping of photoresist residue on post metal etched wafer using supercritical carbon dioxide 김민성, 유기풍, 장원호, 김경환 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
| 3 |
Modification of Ozonated Water Cleaning System for Photoresist Removal 이종혁, 임상우 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
| 2 |
Development of Ozonated Water Wafer Cleaning System 이종혁, 이영환, 박기병, 임상우 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 1 |
Process Development of Photoresist Removal from Commercial Silicon Wafers Using Supercritical Carbon Dioxide 유기풍, 한갑수, 김선영 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
