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SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Application of plasma chemistry in environmental technology 김수한, 최준 한국공업화학회 2021년 가을 학술대회 |
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Numerical 3D simulation of plasma etch profile with real plasma chemistry 박재형, 유혜성, 육영근, 오민주, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
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Advanced 3D feature profile simulation with a realistic plasma surface reaction model 육영근, 임연호, 유혜성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성 한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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메탄개질에서의 plasma chemistry의 역할 송영훈, 황나경, 김관태, 김석준 한국공업화학회 2011년 가을 학술대회 |
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플라즈마를 이용한 탄화수소 개질 공정 이대훈, 김관태, 이재옥, 송영훈 한국공업화학회 2011년 가을 학술대회 |
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SiO2 Etching Studies in Inductively Coupled C4F6 Plasma 채화영, 장원석, 유동훈, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
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고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구|Profile control of high aspect ratio silicon trench etch using SF6/O2/BHr plasma chemistry 함동은, 신수범, 안진호 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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NOx 제거용 코로나 방전 반응기에서의 플라즈마 화학 및 입자 성장|The Plasma Chemistry and Particle Growth in the Corona Discharge Reactor for removal of NOx 김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |