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DHF을 사용한 Brush scrubbing에 발생하는 PVA brush의 변화 연구
진승완, 황준길, 한광민, 김동규, 조휘원, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Mechanistic Study of Different Cleaning Methods to Remove Ceria Particles from Silicon Oxide Surface
한소영, 박진구, Samrina Sahir, Nagendra Prasad Yerriboina, 한광민
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Investigation of Corrosion Inhibitor Induced Particle Contamination on Post Cu CMP Surface
이찬희, 류헌열, 황준길, 조휘원, 이유진, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Quantitative Comparison of Silica and Ceria Abrasive Contamination on PVA Brush and Its Effect on Post CMP Cleaning Process
조휘원, 류헌열, 황준길, 이찬희, 김여호, 김태곤, Nagendra Prasad Yerriboina, 박진구
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Structural reliability evaluation of low-k nanoporous dielectric interlayers integrated into microelectric devices
허규용, 브라이언 지원 리, 이호열, 최경근, 이문호
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명
강봉균, 박진구, 강영재, 조병권, 홍의관, 한상엽, 윤성규, 윤보언, 홍창기
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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STI, Poly-Si CMP 공정 중의 연마입자 부착력 특성 평가
김진영, 홍의관, 박진구
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Advances in Post CMP Cu Cleaning|Advances in Post CMP Cu Cleaning
박진구
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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반도체 Wet Cleaning Process
조일현
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
