| 번호 | 제목 |
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SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate 구조에서 H-termination효과 및 전기적 특성의 관찰|H-termination effect and electrical property of SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate stack 최지훈, 이치훈, 박재후, 이석우, 황철성, 김형준 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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Ti-Silicide 형성에 미치는 전세정 효과|The Effect of Precleaning Treatments on The Formation of Ti-Silicide 정상철, 박지수, 윤여분, 노재성, 김재정|Sang-Chul JUNG, Ji-Soo PARK, Yeo-Boon YOON, Jae-Sung ROH, Jae-Jeong KIM 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
