화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Combined Run-to-Run and Real-time Multivariable Control for Wafer Temperature Uniformity in a 12-inch RTP Equipment
원왕연, 윤우현, 이광순, 지상현, 나병철, 이세찬
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
3 Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
2 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
1 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회