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Mechanistic Study of Different Cleaning Methods to Remove Ceria Particles from Silicon Oxide Surface
한소영, 박진구, Samrina Sahir, Nagendra Prasad Yerriboina, 한광민
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Sphere-shaped ceria particles for reducing the defects in STI CMP process
김나연, 남재도, 선한나
한국고분자학회 2018년 가을 학술대회 |
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Study on interaction between ceria and various silicon-based wafers for brand-new semiconductor cleaning process
명경규, 변진욱, 임태호, 김재정
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
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Development of the intersitital dominated Si crystal in Czochralski method
송도원, 손수진, 정호섭, 김상희, 오현정, 이홍우
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회 |
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Narrow gap filling in 25 nm shallow trench isolation using highly porous organosilica
장정식, 오현택, LEE JAMES SANGMIN
한국공업화학회 2015년 가을 학술대회 |
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Preparation of highly porous organosilica structure for narrow gap filling in 25 nm shallow trench isolation
서영덕, 장정식
한국공업화학회 2015년 봄 학술대회 |
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Narrow gap filling in 25 nm shallow trench isolation using highly porous organosilica
LEE JAMES SANGMIN, 장정식
한국공업화학회 2014년 가을 학술대회 |
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첨가물을 통한 Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식 에칭기술 개발
배진성, 임상우, 서동완, 박찬형
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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ILD CMP 공정에서 실리콘 산화막의 기계적 성질이 Scratch 발생에 미치는 영향
조병준, 권태영, 김혁민, 박진구
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식 에칭기술 개발
배진성, 오지숙, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
