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The Development of Stress Controllable ALD_LFW
전진호, 박영훈
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
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The Development of stress controllable ALD_LFW Process and System
H Sunwoo, DW Kim, SJ Jung, ID Jo, JH Jung, WJ Yoon, JH Jeon
한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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전자산업공정에서 배출되는 N2O의 촉매 분해 및 NF3의 영향
서민혜, 이수영, 조성수, 송형운, 김현경
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Silicon Nitride Deposited by VHF-PECVD using a Multi-tile Push-pull Plasma Source
김기석, 김기현, 지유진, 염근영
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Multi-tile Push-pull Plasma Source 를 이용한 VHF (162 MHz)-PECVD 의 Silicon Nitride 증착 연구
김기석, 김기현, 지유진, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Single crystal growth of SiC through high temperature chemical vapor deposition method using methyltriclorosilane
유창형, 강유라, 남덕희, 김준규, 이명현, 서원선, 정성민, 양철웅
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Dismutation of trichlorosilane to dichlorosilane
이동원, 한준수, 이명의, 유복렬
한국공업화학회 2014년 봄 학술대회 |
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Si Thin Film Photovoltaic Technology
Chang Hong Shen, Ming-Hsuan Kao, Peichen Yu, Hao-Chung Kuo, Ching-Ting Lee, Jia-Min Shieh
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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Redistribution Reaction of Trichlorosilane to Dichlorosilane
이동원, 이명의, 한준수, 유복렬
한국공업화학회 2013년 가을 학술대회 |
| 26 |
Redistribution Reaction of Trichlorosilane to Dichlorosilane
이동원, 한준수, 이명의, 유복렬
한국공업화학회 2013년 봄 학술대회 |
