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Electrical and interfacial properties of dipole in High-k/SiO2 structure according to SiO2 buffer layer
김륜나, 김원진, 나호윤, 임현민, 서동혁, 김우병
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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비인산계 용액 내 Si3N4/SiO2 선택적 식각 반응 및 첨가제의 영향 연구
손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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인산 기반 용액을 이용한 Si3N4/SiO2 선택적 식각의 고온에서의 경향 연구
박태건, 김태현, 손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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Influence of Chloride Ion on Tungsten (W) and Silicon dioxide (SiO2) films for the W Chemical Mechanical Planarization (CMP) process
Jae-Young Bae, Soo-Bum Kim, Eun-Bin Seo, Haneol Choi, Jin-Hyung Park, Jea-Gun Park
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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A comparison of the properties of SiO2 film produced by RF and pulsed DC magnetron sputtering.
Eun mi, Park, Hye jin, Jeong, Moon Suhk, Suh
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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첨가제를 통한 인산의 Si3N4/SiO2 선택적 습식 에칭 능력 향상
손창진, 임상우
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회 |
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Hydrothermal로 합성한 Nano-Needle TiO2 첨가에 따른 TiO2 film의 광촉매 특성
김정식, 김병민
한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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Control of the contact hole diameter in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 가을 학술대회 |
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Real-Time Endpoint Detection for SiO2 Film Plasma Etching Using Impedance Analysis with Modified Principal Component Analysis
장해규, 김대경, 채희엽
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Stretchable Oxide Thin Film Transistor
박경애, 이덕규, 김윤제, 안종현
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
