| 번호 | 제목 |
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| 4 |
Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 3 |
Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
| 2 |
Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 1 |
Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이광순, 양대륙, 최범규 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
