화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas
이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
2 3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C4F6/Ar/O2 plasmas
장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
1 Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas
장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회