화학공학소재연구정보센터
번호 제목
18 3D NAND 구조내의 Si3N4의 선택적 식각을 통한패턴 SiO2 식각 제어
손창진, 김태현, 박태건, 임상우
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
17 비인산계 용액 내 Si3N4/SiO2 선택적 식각 반응 및 첨가제의 영향 연구
손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회
16 3D NAND에서 Si3N4 선택적 식각 중 발생하는 산화물 재성장 현상 연구
김태현, 손창진, 박태건, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회
15 인산 기반 용액을 이용한 Si3N4/SiO2 선택적 식각의 고온에서의 경향 연구
박태건, 김태현, 손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회
14 첨가제를 이용한 SiO2 식각 속도 억제 및 Si3N4/SiO2 식각 선택비 향상
김태현, 임상우
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
13 Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition
권영균, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
12 용액 공정 기반 Li-F 동시 도핑된 산화아연 박막트랜지스터의 제작 및 전기적 특성 평가(Fabrication and electrical properties of solution-based Li-F codoped ZnO thin-film transistor)
안희주, 명재민, 이수정, 김현민
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
11 Al2O3 Thin Film Encapsulation by Ozone-based Atomic Layer Deposition
Seokyoon Shin, Giyul Ham, Joohyun Park, Juhyun Lee, Hyeongsu Choi, Seungjin Lee, Sejin Kwon, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
10 Developing of Inorganic Thin Film Encapsulation Layer Deposited by Low Temperature (<100 °C) Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Kiyoung Oh, Younghak Kim, Daesoo Lee, Seog Chul Chung, Byeong Seong Cho, Jungsu Choi, Sungjin Kim, Seungjin Yun
한국재료학회 2015년 가을 학술대회
9 In-situ Sputtering을 이용한 투명 플렉서블 디바이스용 다층 구조 IZO/Ag/IZO 박막의 전기적 광학적 특성 (Electrical and optical properties of IZO/Ag/IZO multilayer deposited by in-situ sputtering for transparent flexible devices)
김윤철, 이수정, 장건, 명재민
한국재료학회 2015년 봄 학술대회