| 번호 | 제목 |
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STI CMP용 나노 세리아 슬러리에서 계면 활성제 분자량의 영향|Effects of molecular weight of surfactant in Nano Ceria Slurry on Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing 이명윤, 강현구, Takeo Katoh, 박형순, 백운규, 박재근 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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기계·화학적인 연마에서 슬러리의 특성에 따른 나노토포그래피의 영향과 numerical 시뮬레이션|Effect of Slurry Characteristics on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing and Its Numerical Simulation Takeo Katoh, Min-Seok Kim, Ungyu Paik, Jea-Gun Park 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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STI CMP용 나노 세리아 슬러리에서 연마입자의 결정특성에 따른 평탄화 효율의 의존성|Dependency of Planarization Efficiency on Crystal Characteristic of Abrasives in Nano Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing Hyun Goo Kang, Takeo Katoh, Sung Jun Kim, Ungyu Paik, Jea-Gun Park 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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가교결합된 Poly(dimethylsiloxane)의 팽윤평형|Swelling Equilibria of Crosslinked Poly(dimethylsiloxane) 유진성, 김성준, 최중소|Jin Sung Yoo, Sung Jun Kim, Joong So Choi 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
