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Formation of TaNx diffusion barrier using plasma enhanced atomic layer deposition 문대용, 한동석, 김경택, 박종완 한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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Chemical vapor deposition of TaCxNy films using tert-butylimido tris-diethylamido tantalum (TBTDET) : Reaction mechanism and film characteristics Suk-Hoon Kim, Shi-Woo Rhee 한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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Atomic Layer Deposition of TaC gate electrode with TBTDET 조기희, 이시우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
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원자층 기상증착공정(Atomic Vapor Deposition)을 이용한 TaCN 박막의 특성 평가 김석훈, 이시우 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Solid phase formation and stoichiometry of the plasma-enhanced atomic layer deposited Tantalum carbo-nitride films using TBTDET and hydrogen 송문균, 이시우 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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원자층 증착 공정을 이용한 탄탈륨 카보나이트라이드 박막의 조성 및 고체 상 변화에 따른 박막 특성 연구 송문균, 이시우 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
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원자층 증착법을 이용한 Tantalum carbonitride 박막의 증착 및 특성 평가 송문균, 이시우 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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In-situ diagnosis of tantalum precursors using Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy Sukhoon Kim, Moonkyun Song, Shi-Woo Rhee 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Preparation of TaN thin film By Plasma Assisted Atomic Layer Deposition using Tert-butylimino-tris-diethylamino tantalum 김등관, 김도형 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |