화학공학소재연구정보센터
번호 제목
9 Formation of TaNx diffusion barrier using plasma enhanced atomic layer deposition
문대용, 한동석, 김경택, 박종완
한국재료학회 2010년 봄 학술대회
8 Chemical vapor deposition of TaCxNy films using tert-butylimido tris-diethylamido tantalum (TBTDET) : Reaction mechanism and film characteristics
Suk-Hoon Kim, Shi-Woo Rhee
한국재료학회 2009년 가을 학술대회
7 Atomic Layer Deposition of TaC gate electrode with TBTDET
조기희, 이시우
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
6 원자층 기상증착공정(Atomic Vapor Deposition)을 이용한 TaCN 박막의 특성 평가
김석훈, 이시우
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
5 Solid phase formation and stoichiometry of the plasma-enhanced atomic layer deposited Tantalum carbo-nitride films using TBTDET and hydrogen
송문균, 이시우
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
4 원자층 증착 공정을 이용한 탄탈륨 카보나이트라이드 박막의 조성 및 고체 상 변화에 따른 박막 특성 연구
송문균, 이시우
한국재료학회 2008년 봄 학술대회
3 원자층 증착법을 이용한 Tantalum carbonitride 박막의 증착 및 특성 평가
송문균, 이시우
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
2 In-situ diagnosis of tantalum precursors using Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy
Sukhoon Kim, Moonkyun Song, Shi-Woo Rhee
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
1 Preparation of TaN thin film By Plasma Assisted Atomic Layer Deposition using Tert-butylimino-tris-diethylamino tantalum  
김등관, 김도형
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회