| 58 |
Halogen-free Atomic Layer Etching of Metal Oxides
이정빈, 노재홍, 박태주, 김우희
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 57 |
Control of electric characteristic of atomic layer deposited Al-doped SnO2 using annealing process
이성권, 김지수, 이도욱, 김병욱, 전형탁
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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Structural and compositional changes of CIGS thin films after heat treatment in inert atmosphere
남지연, 이승훈, 이해석, 김동환, 강윤묵
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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Thermal atomic layer deposition of Molybdenum trioxide using metal organic precursor and H2O reactant.
이정훈, 최연식, 김병욱, 박현우, 이남규, 전형탁
한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
| 54 |
Carbon contents control of low-k material with methane plasma
송석휘, 정찬원, 김영준, 김종우, 권유림, 전형탁
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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온도와 두께 변화에 따른 징크 산화물 기반 전도성-브릿지 저항 변화 메모리의 전기적 특성 확인
이동호, 김필수, 진수민, 박재근
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition
Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
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Structural and Electrical characteristics of Low-k Silicon Oxycarbide thin film deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition
Yurim Kwon, Chanwon Jung, Jongwoo Kim, Suhyeon Park, Byunguk Kim, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
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Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition
권영균, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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EFFECTS OF POST-SYNTHESIS THERMAL CONDITIONS ON METHYL AMMONIUM LEAD IODIDE PEROVSKITE
Daehan Kim, Gee Yeong Kim, William Jo, Byungha Shin
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
