번호 | 제목 |
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1 |
A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography 정선화, 조경천, 김진백 한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
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A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography 정선화, 조경천, 김진백 한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |