화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
2 Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
1 유도결합플라즈마에서 CO/NH3가스를 이용한 Magnetic Tunneling Junction(MTJ) layer 식각
김성희, 전민환, 염근영
한국재료학회 2012년 봄 학술대회