화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Characteristics of C3F6O/O2 plasmas for chamber cleaning
Sung Woo Park, Kyung Che Yang, Geun Young Yeom
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
3 폴리이미드고분자 분리막을 이용한 전자산업 불화가스 분리 및 처리를 위한 통합시스템 개발
육종묵, 노영석, 박문수, 오가연, 배지철
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
2 반도체 공정에서 배출되는 PFCs처리를 위한 Pilot급 평가시스템 개발
오가연, 노영석, 박문수, 육종묵, 김영진
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
1 전자산업에서 배출되는 PFCs처리 연구를 위한 Pilot급 평가시스템 개발
오가연, 박문수, 노영석, 조철희, 김영진
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회