| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 7 |
Fabrication of Backside-Illuminated CMOS Image Sensor Using 3-D Interconnect Technologies 표성규 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 6 |
Characteristics of deep Si etching using the advanced Bosch process in PFC- and UFC- containing plasmas 지정민, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
| 5 |
Deep Si Etching using SF6/C4F8 and SF6/C4F6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 우상호, 김창구 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 4 |
Optimization of Deep Si Etching using C4F8/SF6 and C4F6/SF6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 김창구 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회 |
| 3 |
Investigation of Etch Characteristics of Deep Si Etching in PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 권혁규, 우상호, 김일욱, 김창구 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
| 2 |
Compariosn of etch characteristics in deep Si etching using PFC- and UFC-containing plasmas 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 1 |
A comparative study on deep Si etching using PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 박창한, 김창구 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
