화학공학소재연구정보센터
번호 제목
15 Poly Si Nano-Pattern Etching Using Cl2/Ar Synchronized, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas
김희주, 김교운, 홍종우, 오지수, 김정완, 이채린, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
14 Superimposed multi-frequency plasma source 의 plasma diagnostic 및 etch 특성 분석
양경채, 김수강, 신예지, 성다인, 염근영
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
13 Properties of Inductively Coupled Plasma Source Applied to Internal Linear Antenna using Superimposed Dual Frequency
이수정, 김도한, 김태형, 김수강, 이원오, 김경남, 염근영
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
12 Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2
이호석, 양경채, 박성우, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
11 Properties of Superimposed Internal Linear ICP Source Using Dual Frequency
김도한, 염근영, 김태형
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
10 Plasma characteristics of superimposed ICP source using dual frequency
이승민, 김태형, 이철희, 김경남, 배정운, 염근영
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
9 Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
8 Effects of varying Radio Frequency on Properties of SiNx:H films for Silicon Solar Cells
Kyung Dong Lee, Seongtak Kim, Kwang-sun Ji, Hyunho Kim, Sungeun Park, Soohyun Bae, Hae-seok Lee, Yoonmook Kang, Donghwan Kim
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
7 다양한 PECVD 무선주파수 변화에 따른 실리콘 태양전지 전면 패시베이션층 특성분석
이경동, 김성탁, 김현호, 박성은, 이해석, 김동환
한국재료학회 2013년 봄 학술대회
6 Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO2의 식각특성에 관한 연구
염근영, 전민환, 김회준
한국재료학회 2013년 봄 학술대회