화학공학소재연구정보센터
번호 제목
349 Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography
Yeo Kyung Kang, 김명길
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회
348 Metal Chalcogenide based- Photoresists with Chemical Amplified Ligand
전승주, 김예진, 황도훈, 김명길, 임보규
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회
347 Titanium Nitride Nanoring Arrays over a Large Area Exhibiting Broadband Absorption in the Visible to Near-infrared
고명철, 김진곤
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회
346 ESG Initiatives in Semiconductor Materials: Next Gen. Etching Gas with Low Global Warming Potential
김오현
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
345 3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma
박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
344 Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol
이유종, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
343 SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
342 NF3 플라즈마 및 Trimethylaluminum을 사용한 Al2O3의 등방성 원자층 식각
강호진, 하희주, 이형우, 김용재, 채희엽
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
341 Fabrication of Organic Light Emitting Diode Micropixels by Self-Aligned Imprint Lithography and Plasma-Etch Processes
박형기, 나창연, 이한길, 박성민, 조성민
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
340 Layer-by-Layer Etching of Copper Thin Films Using Acetylacetone/O2/Ar Gas Mixture
김승현, 임은택, 박성용, 정지원
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회