349 |
Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography Yeo Kyung Kang, 김명길 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
348 |
Metal Chalcogenide based- Photoresists with Chemical Amplified Ligand 전승주, 김예진, 황도훈, 김명길, 임보규 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
347 |
Titanium Nitride Nanoring Arrays over a Large Area Exhibiting Broadband Absorption in the Visible to Near-infrared 고명철, 김진곤 한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
346 |
ESG Initiatives in Semiconductor Materials: Next Gen. Etching Gas with Low Global Warming Potential 김오현 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
345 |
3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma 박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
344 |
Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol 이유종, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
343 |
SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
342 |
NF3 플라즈마 및 Trimethylaluminum을 사용한 Al2O3의 등방성 원자층 식각 강호진, 하희주, 이형우, 김용재, 채희엽 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Fabrication of Organic Light Emitting Diode Micropixels by Self-Aligned Imprint Lithography and Plasma-Etch Processes 박형기, 나창연, 이한길, 박성민, 조성민 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Layer-by-Layer Etching of Copper Thin Films Using Acetylacetone/O2/Ar Gas Mixture 김승현, 임은택, 박성용, 정지원 한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |