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높은 내식각성을 갖는 EUV lithography(EUVL)용 고불소화 주석산화물 레지스트의 합성 및 리소그래피 특성 평가
안형주, 우지훈, 구예진, 이진균
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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Improvement of line edge fluctuation and etching selectivity of self-assembled block copolymer patterns using a copolymerized block
송승원, 정연식
한국고분자학회 2017년 가을 학술대회 |
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A Density-Controlled Polyimide Nanotips Array on Substrates using Block Copolymer Micelle Lithography
이경원, 양승윤, 이승현, 유성일, 김장환
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Development of siloxane-based UV curable resins for roll-to-roll UV nanoimprint lithography for 100 nm pitch wire grid polarizer
이영철, 배은진, 강영훈, 조상욱, 정명영, 조성윤
한국고분자학회 2015년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Characterization of Photocurable Siloxanes for 100 nm Pitch Nanoimprint Lithography
이영철, 강영훈, 배은진, 이창진, 조성윤
한국고분자학회 2014년 가을 학술대회 |
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Synthesis of Photocurable Siloxanes and Phosphorus Contanining Materials for Nanoimprint Lithography
이영철, 배은진, 강영훈, 조성윤, 이창진
한국고분자학회 2014년 봄 학술대회 |
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Preparation of Acid-Stimulated Chain-Scission Polymers
손해성, 이종찬
한국공업화학회 2011년 가을 학술대회 |
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Comparison of the plasma etching and chemical etching of glass
Jungki Lee, Seongjin Hwang, Sungmin Lee, Hyungsun Kim
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)
이정기, 황성진, 이성민, 김형순
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses
Jungki Lee, Seongjin Hwang, Sungmin Lee, Hyungsun Kim
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
