| 14 |
Use of heptafluoroisopropyl methyl ether for plasma etching of SiO2
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
| 13 |
Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 12 |
Improvement of Interfacial Adhesion Strength between ZnO NRs and Flexible Films for Piezoelectric Device
박용규, 김련탁, 노원엽, 한윤봉
한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
| 11 |
Effect of F/C ratio in discharge gases on the angular dependence of etch rates of SiO2
조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
| 10 |
Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation
천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
| 9 |
Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas
이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 8 |
Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas
장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 6 |
Effect of CH2F2 addition on angular dependence of SiO2 etching in a C4F6/O2/Ar plasma
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
