| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 5 |
Synthesis and Photolithographic Characterization of Novel Phenolic Molecular Resist with High Glass Transition Temperature 문정석, 오현택, 이진균 한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
| 4 |
A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography 정선화, 조경천, 김진백 한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 3 |
Negative Molecular Resists with Calix[4]resocinarene for DUV Lithography 오태환, 김진백 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
Negative Tone Resist Material Based on Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane for 193 nm Lithography Kim, Jin-Baek, Ramakrishnan Ganesan 한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
| 1 |
Molecular Resists Based on t-Butyl Cholate Derivatives for 193-nm Photoresists 김진백, 오태환, 권영길 한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
