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수용성 포토레지스트 합성 및 포토리소그래피 패턴 형성
유정우, 이수빈, 최재학
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
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Coumarin 기를 포함하는 수용성 고분자 합성 및 광가교 반응 연구
이수빈, 유정우, 최재학
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Lithography of perfluoro-molecular Resists with high Tg under EUV Radiation
우지훈, 이진균
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Nondestructive and direct photolithography for high-resolution InP quantum dot patterns by atomic layer deposition
이준엽, 조성용
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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The fabrication of polyelectrolyte-patterned polystyrene surface via a simple radiation processing for the control of cellular behavior
김수정, 황인태, 정찬희, 최재학
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
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Effect of acid diffusion control on triphenylsulfonium salt bound polymer resist.
정진혁, 박상욱, 이해원
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
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Cross-linking reaction and negative type micropattern formation based on a polymeric photobase generator containing phthalimido carbamate groups
조효인, 채규호
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
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광 경화특성기 및 플러렌이 측쇄에 도입된n-type matrix polymers 합성 및 특성
신영환, 조초, 권영환, 한윤수
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
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Ceramic Patterning and Microstructuring from Inorganic Polymers with Lithographic Techniques
김동표
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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Poly(HEMA-ran-CEMA) copolymer와 Carboxyl-Functionalized C60의반응을 이용한n-type matrix의 개발
신영환, 조초, 한윤수, 권영환
한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
