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Development of recycling process improvement technology for commercialization of etching solution generated from semiconductor process
Se Chul Hong, Mi Young Son, Hee Yul Yang, Dipak Sen
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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Effect of Particle Agglomeration by Air Bubble during Tungsten (w) CMP Process
김동규, 정연아, 한광민, 한소영, 진승완, Nagendra Prasad Yerriboina, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Investigation of Corrosion Inhibitor Induced Particle Contamination on Post Cu CMP Surface
이찬희, 류헌열, 황준길, 조휘원, 이유진, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Quantitative Comparison of Silica and Ceria Abrasive Contamination on PVA Brush and Its Effect on Post CMP Cleaning Process
조휘원, 류헌열, 황준길, 이찬희, 김여호, 김태곤, Nagendra Prasad Yerriboina, 박진구
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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Investigation of Particle Contamination and Removal Mechanism with Corrosion Inhibitors for Cu CMP Application
Hae-Jung Pyun, Byoung-Jun Cho, Jin-Yong Kim, Jin-Goo Park
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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The effect of AlN Buffer Layer in GaN films on Patterned Sapphire Substrate
이창민, 이제행, 이도한, 김대식, 강병훈, 조성찬, 변동진
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
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r-plane 사파이어 기판 위에 성장시킨 a-plane GaN의 탄질화를 통한 ELOG 방법
이창민, 이제행, 이도한, 김대식, 조성찬, 변동진
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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Growth and characteristics of epitaxial lateral overgrown a-plane GaN on r-plane sapphire using high-dose N+-ion-implantation
권준혁, 장삼석, 홍정엽, 문성욱, 변동진
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Stripping of photoresist residue on post metal etched wafer using supercritical carbon dioxide
김민성, 유기풍, 장원호, 김경환
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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세정 성능 평가를 위한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 입자 오염 방법|Particle Contamination Method on Si Wafer Surface for Evaluation of Cleaning Efficiency
김규채, 권태영, 이승호, 이상호, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
