| 9 |
Fluorous solvent-soluble photoresist materials using photo-dimerization mechanism
박우원, 손종찬, 이진균
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
| 8 |
Effect of acid diffusion control on triphenylsulfonium salt bound polymer resist.
정진혁, 박상욱, 이해원
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
| 7 |
Synthesis and Characterization of Triphenylsulfonium Salt Bound Polymer Resist for Fabrication of Nanostructure
정진혁, 이해원, 강하나, 강만규
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
| 6 |
Synthesis and Application of Novel Photoacid Generator Bounding Polymer Resist for Electron Beam Lithography
강하나, 이해원, 권오정, 손경화
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 5 |
Triphenylsulfonium Triflate Bound- and Blended-Polymer Resists for Electron Beam Lithography
권오정, 김민정, 손경화, 강하나, 김은광, 이해원
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 4 |
Photoacid Generator Bound PMMA-Based Resist for nanostructure Fabrication
이해원, 김민정, 손경화, 해먼트 수렌드라 몬드카
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 3 |
Electron beam direct writing of polymer resists containing metal salts
강동우, 정찬희, 황인태, 최재학, 노영창, 문성용
한국공업화학회 2011년 봄 학술대회 |
| 2 |
Mold Preparation for the Residue-Free Processin Thermal Nanoimprinting
윤현식, 차국헌
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회 |
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Synthesis of Photoacid Generator Bound Polymer Resist for Atomic Force Microscope Lithography
이고은, 아쇽나뉴사가, 김민정, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
