| 15 |
Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
| 14 |
Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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Cu(In,Ga)Se2 thin films formed by pulse-reverse electrodeposition method
조승현, 김진혁, 신승욱, 문종하, 이정용
한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
| 12 |
초음파 가진에 따른 이방성 전도필름(ACF)의 경화거동 연구
최명찬, 장영욱, 김기영
한국공업화학회 2010년 가을 학술대회 |
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Ruthenium Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition
Woong-Chul Shin, Kyu-Jeong Choi, Hyun-June Jung, Soon-Gil Yoon, Soo-Hyun Kim
한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
| 10 |
Nucleation Characteristics of Tellurium during Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD)
석경석, 정하나, 임경택, 김도형, 우희권
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Ti-silicate Gate Dielectrics Using Tetrakis-diethylamido Titanium (TDEAT) and Tetrabutoxyorthosilane (TBOS)
이승협, 이승재, 용기중
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구
이승재, 용기중
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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Characteristics of ZnO thin film Deposited by Atomic Layer Deposition Method
송정빈, 허재성, 이동건, 장삼석, 이병훈, 변동진, 손창식, 최인훈
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Characteristics of ZnO thin film Deposited by Atomic Layer Deposition Method
Jae-Sung Hur, Chang-Sik Son, Jeong-Seop Lee, Byoung-Hoon Lee, Jung-Bin Song, Dong Gun Lee, Sam Seok Jang, Dongjin Byun, Jong-Hyeob Baek, In-Hoon Choi
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
