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번호	제목
16	Carbon contents control of low-k material with methane plasma 송석휘, 정찬원, 김영준, 김종우, 권유림, 전형탁 한국재료학회 2019년 가을 학술대회
15	SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회
14	Structural and Electrical characteristics of Low-k Silicon Oxycarbide thin film deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition Yurim Kwon, Chanwon Jung, Jongwoo Kim, Suhyeon Park, Byunguk Kim, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회
13	The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer 장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2017년 봄 학술대회
12	Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회
11	9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer 김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회
10	Characteristics of silicon oxy-carbide deposited by RPALD using OMCTS 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회
9	Characteristics of Low Temperature Al₂O₃ Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition 오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
8	Effects of Al2O3/ZrO2 Nanolaminate Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Moisture Barrier Properties 최용혁, 전형탁, 이상헌, 최학영, 신석윤, 박주현, 정현수, 함기열, 양희왕, 오주홍 한국재료학회 2013년 봄 학술대회
7	The effects of Al₂O₃ passivation with HfO₂ as a buffer layer on a-IGZO TFTs Heewang Yang, Hagyoung Choi, Joohyun Park, Seokyoon Shin, Giyul Ham, Sanghun Lee, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2012년 가을 학술대회