| 12 |
The comparison of ozone and H2O for Surface Passivation effect of atomic layer deposited Al2O3 on silicon solar cell
조영준, 장효식
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
| 11 |
Modeling of Single Wafer Cleaning System with Supercritical CO2 Drying
김정남, 이 웅, 한종훈
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 10 |
Development of Ozonated Water Wafer Cleaning System
이종혁, 이영환, 박기병, 임상우
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 9 |
Solubility of carbon dioxide in the ionic liquids, 1-butyl-1-methylpyrrolidinium trifluoromethanesulfonate and trihexyltetradecylphosphonium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide
윤지은, 이광순, 유기풍, 알렉산더
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 8 |
Cu BEOL을 위한 혼합세정액의 개발 및 성분별 특성 분석
이진욱, 이원규
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 7 |
Semiconductor Cleaning for Nano Scale Device
이헌정, 이다희
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 6 |
A Research on Properties of Solubility for Chemicals in Supercritical Carbon Dioxide
이선진, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 5 |
Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure
정미희, 최호석
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 4 |
실리콘웨이퍼의 65nm Particle 제어|Polished Silicon Wafer Cleaning - 65 nm Size Particle Control
배기만
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
| 3 |
초임계 이산화탄소를 이용한 웨이퍼 세정|wafer cleaning by using supercritical carbon dioxide
한기현,김선영,유기풍|Ky-Hyun Han,Sun Young Kim,Ki-Pung Yoo
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
