번호 | 제목 |
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사파이어웨이퍼 연마에대한 실리카졸 물성의영향Effect of silica sol property on sapphire wafer polishing 이승호, 나호성, 김규수, 김대성 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
4 |
Mechanism Study on Synthesis of Silica Nanospheres using FT-IR and SEM 윤동신, 김현정, 유중환 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
3 |
비이온성 계면활성제에 의해서 안정화된 실리카 입자 분산계의 유변학적 거동과 안정성|Rheological Behavior and Phase Stabilities of Silica Suspensions Stabilized with Nonionic Surfactants 소재현, 양승만|Jae-Hyun So, Seung-Man Yang 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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상용화된 성장핵을 사용한 웨이퍼 폴리싱용 실리카 슬러리의 제조|Preparations of wafer polishing silica slurry by using commercial slurry 소재현, 배선혁, 오민호, 양승만, 김도현|Jae-Hyun So, Sun Hyuck Bae, Min-Ho Oh, Seung-Man Yang, Do Hyun Kim 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
1 |
실리콘 웨이퍼의 폴리싱 공정에서 웨이퍼의 제거속도에 미치는 공정변수의 영향|Effect of process parameters on the removal rate of wafer surface in the polishing process of silicon wafer 배선혁, 김도현|Sun Hyuck Bae, Do Hyun Kim 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |