| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2019년 가을 (10/30 ~ 11/01, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 |
23권 2호 |
| 발표분야 |
(환경·에너지2) 환경, 자원, 에너지 확보를 위한 분리기술의 동향 및 전망 |
| 제목 |
고순도 SF6 사례로 보는 반도체용 특수가스 분리정제 기술 |
| 초록 |
최근 한일간에 벌어지고 있는 경제전쟁으로 인해 반도체 소재의 중요성이 크게 부각되고 있다. 반도체용 특수가스는 반도체 제조에 사용되는 중요한 소재로 국산화가 많이 진행됐으나 일부 가스는 순도 문제로 인해 해외 수입에 의존하고 있다. 반도체용 특수가스는 합성기술이 중요하지만 분리정제기술도 매우 중요하다. 그 이유는 반도체 집적도가 높아짐에 따라 회로의 선폭이 줄어들어 가스에 포함된 미량의 불순물이 과거와 달리 반도체의 불량 원인으로 작용할 확률이 높아졌기 때문이다. SF6는 반도체 에칭 공정에 사용되는 가스로 디스플레이의 제조, 변압기 절연물질로도 사용된다. SF6는 지구온난화 계수가 높아 최근에는 사용을 자제하는 추세다. SF6는 특수가스 중에서 비교적 안정된 물성을 갖고 있어서 취급이 용이한 편에 속한다. 저순도 SF6를 고순도로 만들기 위한 방법은 여러 가지 있으나 가스 사용처와 경제성을 고려해 상황에 맞춰 선택된다. 본 발표에서는 고순도 SF6 사례를 통해 반도체용 특수가스를 어떻게 고순도로 정제하는지에 대해 설명하고, 이 외의 몇 가지 사례를 통해 특수가스 정제기술과 그 문제점에 대해 살펴보려고 한다. |
| 저자 |
문흥만 |
| 소속 |
대성산업가스(주) |
| 키워드 |
SF6; 가스정제; 고순도가스; 반도체용 특수가스
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