| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/22 ~ 05/23, 상록리조트) |
| 권호 | 14권 1호 |
| 발표분야 | 에너지환경/생체재료 |
| 제목 | 스퍼터링법에 의한 고밀착력을 갖는 가시/자외광 반응형 TiO2 |
| 초록 | 고주파 마그네트론 스퍼터링법을 사용하여 산소결핍 혹은 질소도핑된 가시광 반응 광촉매를 제조하는데 있어서 원료 물질이 되는 스퍼터링 타겟의 조성변화, Ti 타겟을 사용한 Reactive Sputtering 공정, TiO2 타겟을 사용한 스퍼터링 공정, 지지체와의 밀착력 향상을 위한 새로운 개념의 Sputtering 공정 개발 등의 기술을 정립하여 밀착력이 뛰어난 가시광 반응형 TiO2계 광촉매를 상용화에 적합한 수준으로 개발하였다. 여러 스퍼터링 변수에 따른 TiO2 박막의 증착 특성에 미치는 영향을 알아보기 위해 스퍼터링 시간을 30[min], 60[min], 90[min]과 120[min]으로 변화시켰으며, Ar과 O2의 분압비는 0:100≤Ar:O2≤98.7%:1.3%로 조절하였고, 글라스와 알루미나 기판을 사용하여 TiO2 박막을 제작, 분석하여 다음과 같은 결론을 얻었다. - 소결후 변형이 없는 최적 소결공정 개발 (800～1,200℃ sintering) - 밴드갭 변화를 목적으로 한 불순물 주입방법 개발 - XRD 분석 결과 anatase 또는 rutile 형태의 TiO2 Target의 제조가 확인됨 - 도출된 최적 기판온도, 스퍼터링 압력, DC Power는 각각 R.T., 3.1×10-2 Torr, 300mA 부근 이었음 - 광학적 에너지 밴드갭은 순수 TiO2 및 질소가 도핑된 경우에는 약 3.4∼3.7 eV를 나타내며, 산소가 결핍된 TiO2의 경우에는 약 2.75eV까지 달성됨 |
| 저자 | 정운조1, 이경구2, 김운섭2, 이도재3, 이광민3, 허석3 |
| 소속 | 1(주)오티앤티, 2(재)광주테크노파크, 3전남대 |
| 키워드 | 광촉매; 가시광선 |
