| 초록 |
폴리이미드는 높은 내열성과 화학적 안정성이 우수하고 낮은 유전특성을 가지고 있을 뿐만 아니라 무기 절연 재료에 비하여 공정이 용이하고 기계적 특성이 우수하기 때문에 전기 전자산업에서 인쇄회로 기판, 직접회로, 고직접회로 등 기능성 재료 및 고성능재료로 이용되고 있다. 이러한 폴리이미드의 개질을 위해서는 기능성 작용기를 부착할 수 있는 새로운 폴리이미드 단량체를 합성하고 이를 통해 얻어진 기능성 폴리이미드를 다시 기능성 작용기와 반응하여야 하는 어려운 과정이 필요하다. 본 연구에서는 폴리이미드의 새로운 개질 방법으로서 가용성 폴리이미드의 chloromethylation을 연구하였으며, 얻어진 chloromethyl 폴리이미드를 cinnamic acid와 반응함으로써 간단한 방법에 의해 감광성 폴리이미드를 합성하였다. 이렇게 합성된 고분자의 분자구조 및 특성은 NMR, FT-IR, DSC, TGA, UV등의 분석장치를 이용하여 확인하였다. 그 결과 새로 합성된 감광성 폴리이미드는 우수한 열적 안정성을 가지며, 365nm의 UV 조사에 의하여 [2+2]고리화 반응을 일으킨다는 것이 확인 되었으며, 패턴형성도 가능하다는 것이 확인되었다. |
