| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교) |
| 권호 | 27권 1호, p.150 |
| 발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
| 제목 | 비대칭 시클로부탄 고리를 가진 감광성 폴리이미드의 합성 및 물성 |
| 초록 | 폴리이미드는 전기적, 기계적, 화학적 특성뿐만 아니라 열적 안정성이 뛰어나므로 산업용 재료로서 폭넓게 이용되어 지고 있다. 특히 감광성 폴리이미드는 포토레지스트 공정과 에칭공정을 줄일 수 있으므로 전자 산업용 재료로서 유용하게 사용되고 있다. 본 연구에서는 polyimide 주쇄 내에 빛에 의해 분해가 일어나는 감광성 그룹으로서 시클로부탄 고리를 가지는 비대칭 폴리이미드를 합성하고 포토레지스트로서의 특성을 연구하였다. 합성한 고분자의 구조는 FT-IR, H-NMR등으로 확인하였으며 DSC와 TGA를 이용하여 열적 성질을 측정하였다. 합성한 폴리이미드는 254nm의 자외선 조사에 의해 알칼리 현상액에 용해도가 증가하는 포토레지스트로서의 특성을 나타내었다. |
| 저자 | 부지석, 채규호 |
| 소속 | 전남대 |
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